全譜直讀光譜儀采用標準的設計和制造工藝技術，采用全數(shù)字化技術，替代龐大的光電倍增管（PMT）模擬技術，采用真空光室設計及全數(shù)字激發(fā)光源、CMOS檢測器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有較高的性能、較低檢出線、長期的穩(wěn)定性和重復性。

  全譜直讀光譜儀 應用領域：冶金、鑄造、機械、科研、商檢、汽車、石化、造船、電力、航空、核電、金屬和有色冶煉、加工和回收工業(yè)中的各種分析。

   檢測基體：鐵基、銅基、鋁基、鎳基、鈷基、鎂基、鈦基、鋅基、鉛基、錫基、銀基。

   主要技術參數(shù)：

      波長范圍：170nm~580nm

                   焦距：   400mm

             探測器：高性能CCD陣列

             光源類型：數(shù)字光源，高能預燃技術（HEPS）

             放電頻率：100-1000Hz

             放電電流：400A

             工作電源：220VAC 50/60Hz

             儀器尺寸：720*860*500

             儀器重量：約100kg（不含真空系統(tǒng)）

             檢測時間：依據(jù)樣品類型而定，一般25S左右

             電極：鎢材噴射電

             光學恒溫：34℃± 0.3℃

             氬氣要求：99.999％

             氬氣進口壓力：0.5MPa

             氬氣流量：激發(fā)流量約3.5L/min

             工作溫度：10℃～35℃

             工作濕度：20％～85％

             分析間隙：真空軟件自動控制、監(jiān)測

   技術特點：

1、高性能光學系統(tǒng)

《1》光學系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導入真空光學室，實現(xiàn)光路  直通，有效的降低光路損耗；

《2》高性能光學系統(tǒng)設計及采用高精度的光學元件可精確測定非金屬元素中C、P、S、N以及各種元素含量；  

《3》測定結(jié)果準確，重現(xiàn)及長期穩(wěn)定性。

2、自動光路校準

《1》自動光路校準，光學系統(tǒng)自動進行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作；

《2》儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比，確定漂移位置，找出分析線當前的像素位置進行測定。

3、單板式透鏡設計

《1》真空光學系統(tǒng)采用*的入射窗與真空隔離，可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作，光學透鏡采用單板式透鏡結(jié)構(gòu)，日常清洗維護方便快捷。

《2》在日常工作中儀器無需維護，也沒有消耗品及更換零部件。

4、真空室一體化

《1》*的光室結(jié)構(gòu)設計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半。

《2》真空室一體化設計及高精密的加工，使真空保持的更加持久。

5、真空防返油技術

《1》多級隔離的真空防返油技術，采用真空壓緊、擋板閥保證真空泵不工作時間真空光室與真空*隔離。

《2》中間增加了真空濾油裝置，確保真空泵中油不進入真空室，保障CCD檢測器及光學元件在可靠環(huán)境中工作。

6、開放式激發(fā)臺

《1》開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設計，以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析。

《2》配合使用小樣品夾具，線材分析可達到1.5mm。

7、噴射電極技術：

《1》采用噴射電極技術，使用鎢材料電極，在激發(fā)狀態(tài)下，電極周圍會形成氬氣噴射氣流，這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸，提高激發(fā)精度。

《2》配上*氬氣氣路設計，大大降低了氬氣使用量，也降低客戶使用成本。

8、集成氣路模塊

《1》激發(fā)臺采用散熱性能好的合金材料制作，不僅堅固、耐用而且清潔方便。

《2》供氣系統(tǒng)采用集成氣路模塊，電極自吹掃功能，為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。

9、全數(shù)字化激發(fā)光源：

《1》全數(shù)字激發(fā)光源，采用等離子激發(fā)光源，超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品。

《2》全數(shù)字激發(fā)脈沖，確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出。

《3》滿足各種不同材料的激發(fā)要求。

10、高速數(shù)據(jù)采集：

《1》儀器采用高性能CCD器件，紫外鍍膜技術及高性能FPGA、ＤＳＰ及ＡＲＭ處理器。
《２》具有高速數(shù)據(jù)采集分析功能，并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。

11、以太數(shù)據(jù)傳輸：

《１》計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議，避免電磁干擾，光纖老化的弊端，同時計算機和打印機*外置，方便升級和更換。

《2》完備的網(wǎng)絡系統(tǒng)。

《3》可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài)，多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。

12、預制工作曲線：

《1》根據(jù)元素和材質(zhì)對應的分析程序而稍有差異，激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好，根據(jù)分析程序可自動選擇測試條件。

《2》長期以來工廠積累了大量的經(jīng)驗以及全面的標樣庫，儀器出廠時工廠預制工作曲線，使用戶拿到儀器后可投入使用。

《3》技術規(guī)格中附有分析范圍（并可根據(jù)用戶提供標樣免費繪制或延長工作曲線）。

13、分析速度快捷：

《1》分析速度快捷，為客戶節(jié)約了寶貴的時間，20秒內(nèi)可測完所有通道的元素成分。

《2》針對不同的分析材料，通過設置預燃時間及測量時間，使儀器短時間達到分析效果。

14、多基體分析

《1》光路設計采用羅欄園結(jié)構(gòu)，CCD上下交替排列，保證接收全部的譜線，不增加硬件設施，即可實現(xiàn)多基體分析。

《2》便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素。

《3》相比光電倍（PMT）光譜儀可大大減低使用成本及使用范圍。